蝕刻劑


DG-200NHF(取代原有SiE-200)玻璃蝕刻劑、DG-300NHF(取代原有SiE-300)玻璃拋光劑

產品  說明
DG-200NHF(取代原有SiE-200) 本蝕刻液為弱酸性系統中的玻璃蝕刻液,不含氫氟酸,操作與加熱使用過程完全不會產生HF煙霧,不具像氫氟酸一樣的劇毒特性,且不會攻擊與分解乾、溼光阻,於室溫下蝕刻玻璃速率約與15%HF相同,高溫操作下蝕刻速率遠大於HF系統,高溫操作非常適合用來快速蝕刻玻璃,對石英玻璃或矽晶圓材質蝕刻時,不會產生晶界腐蝕現象。 
 
DG-300NHF(取代原有SiE-300) 不含氫氟酸,拋光過程不需要加熱處理,能夠對各種玻璃進行拋光能力,如鉀強化玻璃、鈉玻璃、硼玻璃、石英玻璃、彩色玻璃、鋁矽玻璃、鎂玻璃等各種玻璃,也能對矽晶圓、太陽能晶片進行拋光效果,使用DG-300NHF拋光後表面無stain,也不會有異物回沾的現象,非常適合直接使用於光學鏡頭與儀器生產或修補用。