蝕刻均勻添加劑 HF專用

 

產品	說明
IC-202	蝕刻均勻添加劑IC-202是針對添加在氫氟酸HF使用，主要是在蝕刻矽晶圓或玻璃的過程當中，能夠提供強大的均勻效果，一般於正常條件下，靠近零件邊緣、板面邊緣、藥水噴出口、回流口部分、管件轉角部份等，都會有比較強的流動置換速率，原因在流速比較快的地方，其層流層被壓縮導致更容易與物件接觸，這種因濃度差快速置換情形下，會導致蝕刻或微蝕不均勻的造成。這種不均勻的狀況會讓微細精密化線路造成嚴重的困擾，甚至有報廢的可能，為了提升蝕刻過程的均勻性，很多廠商都朝著物理方法去進行，也就是修正或進化機台的設備，這個做法有可能會大幅增加使用端客戶成本與金錢花費，而且效果非常有限，在不修正與更新機台的情況下，如果要提升蝕刻均勻性，則可以考慮添加蝕刻均勻劑IC-202，添加前後能有效增幅10~50%的均勻效果，配合機台修正甚至能達到更高的均勻性，對大面板製程特別有明顯的貢獻。